選型指南

隨著 2025 年國家自然科學基金原創探索計劃項目申請指南的發布，科研界再次迎來了一波新的機遇與挑戰！面對這些機遇，除了創新的學術思想，選擇合適的工具更您助您掌握通向成功的鑰匙。

? 復納科技六大明星產品：

• 飛納臺式掃描電鏡

• Technoorg Linda 制樣設備離子研磨儀

• NEOSCAN 高分辨臺式顯微CT

• DENSsolutions 原位透射樣品桿

• Forge Nano 粉末原子層沉積系統

• VSParticle 納米氣溶膠沉積系統

這些儀器在 2024 年創造了多個里程碑時刻，為科研和工業研發提供了高效、精確的微觀表征與分析工具，幫助您更加深入地探索材料微觀世界的奧秘，加速科學發現和技術創新的步伐。

如何在 2025 年的科研征程中搶占先機呢？復納科技的六大儀器產品或許能為您提供答案。我們特別推出了產品選型指南，幫助您深入了解這些儀器產品如何助力科研人員實現從無到有的原創成果，為科研之旅保駕護航。

PHENOM 飛納臺式掃描電鏡

在當今科學研究和工業應用中，掃描電鏡顯微鏡與能譜儀已成為材料實驗室表征工具。荷蘭飛納臺式掃描電鏡（Phenom）以其前沿技術和用戶友好的設計，被 2000+ 用戶認可，研究領域涉及金屬及合金、電池、地質、考古、高分子、靜電紡絲、陶瓷、復合材料、生物醫學和微生物等，成為科研和工業研發高效、精確材料微觀表征與分析的選擇。

飛納電鏡產品線有：臺式肖特基熱場發射掃描電鏡、CeB6 燈絲 XL 系列智能化臺式掃描電鏡、CeB6 燈絲 P系列高性價比臺式掃描電鏡，ParticleX 系列全自動顆粒和異物檢測掃描電鏡，DiatomAI 全自動硅藻檢測系統（電鏡法）。

飛納臺式掃描電鏡

• 相較傳統電鏡，成像速度提升 10 倍：15s 抽真空，30s 成像

• 采用超長壽命的 CeB6 燈絲，平均 3 年以上更換燈絲

• 不挑安裝環境，防震防磁，放置高樓層也無需擔心

• 原廠集成能譜 EDS，一分鐘給出 SEM 和元素分析 2 個結果

• 讓精密儀器無后顧之憂，全球 5000+ 用戶選擇

• 最“老"的電鏡，也是最“新"的電鏡!

• 自動化掃描電鏡，讓測試效率翻倍

• 高效穩定的臺式場發射掃描電鏡

Phenom 飛納電鏡型號推薦

2024年，飛納電鏡還推出一系列新技術--ChemiSEM 彩色成像軟件，ChemiPhase 物相分析軟件、Phenom MAPS 大面積能譜拼圖軟件等新技術，不僅打破大家對于掃描電鏡圖片是黑白的傳統認知，而且將掃描電鏡成像分析帶入一個全新的高度。此外，Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機，可以實現在同一系統中對樣品進行多模態（SEM 及 AFM 形貌、元素、機械、電學、磁學）的關聯分析。

2025 年，為您的材料實驗室增購飛納臺式掃描電鏡，揭開材料微觀世界的奧秘，加速科學發現和技術創新的步伐。

Technoorg Linda  離子束制樣設備

Technoorg Linda 提供專業的樣品制備解決方案。 產品通過全球的超高能氬離子槍和低能氬離子槍，對樣品進行無損研磨，精細加工以及最終精修。具體包括SEM樣品制備（SEMPrep SMART）、FIB離子精修（Gentle Mill）、TEM 樣品制備離子減薄儀（Unimill）以及 GIB 精修離子束系統等產品。Technoorg Linda 榮獲 2024 年 Red Dot Concept Award（紅點獎）工業設備類別獎項。這些產品與所有品牌的電子顯微鏡兼容，涵蓋從機械樣品制備到離子研磨和最終精修的整個減薄過程。適用于材料科學、生物研究、地質學、半導體和光學等多個領域。

型號推薦——Technoorg Linda 離子束制樣設備

SMART 離子研磨儀

用于SEM/EBSD樣品制備

• 樣品表面拋光/截面切削

• 氬離子束無應力處理樣品

• 定位精準：可實現 ± 1微米

• 離子槍能量最高：0-16 KV

• 超大樣品腔室：容納直徑50mm樣品

• 制冷設計：液氮 LN2 制冷

• 可選配真空轉移功能

Gentle Mill 離子精修儀

用于FIB樣品處理

Gentle Mill 離子精修儀產品采用氬離子束，專為最終拋光、精修和改善 FIB 處理后的樣品而設計。Gentle Mill 型號非常適合要求樣品無加工痕跡、表面幾乎沒有任何損壞的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用戶。其配備了設計的低能氬離子槍，離子束能量可低達 100eV，可把非晶層厚度精修到 1nm 以下，獲得樣品的真實信息。

UniMill 離子減薄儀

用于 TEM/XTEM 樣品制備

Unimill 離子減薄儀專為快速地制備具備高減薄率的、高質量的 TEM / XTEM 樣品而設計。 即可以使用全球的超高能離子槍進行快速研磨，也可以使用專用的低能離子槍進行最終拋光和精修處理。

GIB 精修離子束系統

可集成于FIB內進行樣品處理

精修離子束系統（GIB）適用于表面減薄、其他表面處理后的后處理、清潔以及去除無定形和氧化物表面層。當低能氬離子槍集成到掃描電鏡中時，其作用尤為明顯。有了集成離子槍，就可以在研究之前對樣品進行精修。實現高質量樣品的另一個重要應用是在雙束 SEM / FIB 系統中進行 FIB 樣品制備后，對 TEM 樣品進行最終拋光和溫和的表面清潔。 

Neoscan  X射線顯微CT

NEOSCAN 臺式顯微 CT 采用先進的 X 射線成像技術，結合精密的機械系統和圖像重建算法，能夠非破壞性地獲取樣品的內部結構信息。最小體素尺寸可達 40nm，用臺式技術重新定義納米CT！還可選配集成 XRF 系統，輕松進行化學成分分析，鉀（K）以上元素可分辨！在骨科、生物、農業、3D打印、制藥、考古、材料科學等行業都有著廣泛應用！相較于傳統的大型 CT 設備，Neoscan 臺式顯微 CT 更加緊湊便攜，適用于實驗室和研究機構的日常使用。這種新穎的技術和表征手段在科研和工業界中獨樹一幟，為您尋求突破傳統研究方法限制開辟了新的視野。

Neoscan 顯微CT 

• 開創性高分辨顯微CT，重新定義臺式技術！

• 最小體素尺寸可達 40nm

• 集成 XRF系統，可進行化學成分分析

• 鉀（K）以上元素可分辨

• 樣品尺寸可達 100mm* 400 mm

DENSsolutions TEM 原位實驗樣品桿

傳統透射電子顯微鏡 (TEM) 主要用于成像材料結構，近年來球差等先進技術使其達到原子分辨率。然而，它們無法模擬真實環境（加熱、氣體、液體等），限制了應用價值。DENSsolutions 的原位透射電鏡技術突破了這一瓶頸！利用微機電系統 (MEMS) 技術，可以為原位 TEM 樣品施加外界刺激，捕捉 TEM 樣品在真實環境下的動態現象。

目前，DENSsolutions 已經可以在 TEM 中引入氣、液、熱、電、冷凍等多種狀態，提供 Wildfire TEM 原位加熱樣品桿、Lightning TEM 原位熱電樣品桿、Climate Infinity TEM 原位氣相加熱加電樣品桿以及 Stream Infinity TEM 原位液相加熱加電樣品桿以及 Lightning Arctic 原位冷凍熱電樣品桿，為材料科學研究提供了強大的工具，推動了納米材料、催化劑和納米電子器件等領域的進步和創新。

DENSsolutions，將電鏡從靜態成像工具變身為多功能實驗室，助力納米科技前沿！

ForgeNano  粉末原子層沉積系統

Forge Nano 是粉末原子層沉積方案供應商，利用其平臺技術，可以在高比表面積的粉末顆粒表面構筑超薄的納米涂層或活性組分，開發多種涂層工藝。同時，Forge Nano 是全球少數可將粉體ALD技術進行工業化放大的企業（千噸級粉末處理能力）。我們誠摯地邀請廣大科研工作者，利用新型 ALD 平臺開發可放大的粉體涂層工藝，為新能源、催化、粉末冶金以及制藥等研究方向帶來更多無限可能。

Forge Nano 粉末ALD系統

• 20年粉末ALD技術沉淀，專注粉末工程，行業前沿

• 集成式在線質譜實時監測，涂層生長全程可視化，確保工藝精度

• 從毫克實驗到千噸量產，Forge Nano ALD一站式解決

• 流化床創新設計，提升氣體傳輸效率，避免粉末團聚

• 旋轉床+可視化監測，無需過濾芯設計更高效

• 支持代包覆合作方案

型號推薦

Forge Nano 粉末原子層沉積系統

PROMETHEUS 流化床ALD系統

利用 Prometheus 流化床原子層沉積系統可開發探索復雜的高比表面積粉末涂層，實現克級到公斤級粉末材料的界面涂層生長。批次處理能力提升至企業驗證需求的水平，可加快成果轉化速度。適合兼顧科學研究以及成果轉化的工藝開發需求，實現與企業小試要求的無縫銜接。

PANDORA 多功能ALD系統

Pandora 多功能原子層沉積系統使用操作簡單，兼容性強，適合在前期快速開展粉末包覆和平面樣品薄膜沉積的研究。同時，該系統能真正做到兼顧多種不同樣品的需求，可處理各種復雜樣品并做到 ALD 包覆。 

VSParticle  納米研究平臺

納米制造技術作為納米科技應用的基石，對于實現科研成果的產業化具有舉足輕重的作用。新型的納米制造實驗設備可促進科學成果從 0 到 1 的突破以及成果的商業化轉化，是科研設備更新的重要方向。在納米科技的前沿領域，荷蘭 VSParticle 公司以其革命性的火花燒蝕納米氣溶膠沉積技術，為研究者和產業界帶來了一系列創新的納米顆粒制備和印刷沉積設備。

VSParticle 將先進的納米多孔層打印技術與多倫多大學的測試平臺和 Meta AI 的模型結合在一起，在短短幾個月內，就從不同的元素組合中合成了 525 種材料，以發現應對氣候變化的電催化材料，建立了最大的開源實驗催化劑數據庫。目前 VSParticle 納米沉積系統在浙江大學，東南大學，北京工業大學，中科院物理所，中南大學，廣東工業大學等學術機構和企業均已裝機。火花燒蝕沉積技術已被眾多學者證明，在Nature，Matter, Advanced Functional Materials 等高水平期刊發表相關文章，是新型納米制造的利器。（推薦閱讀：Nature 大子刊、AM 都在用!氣溶膠沉積助力科研“彎道超車"）

型號推薦

VSParticle 納米氣溶膠沉積系統

VSP-P1 納米印刷沉積系統

VSP-P1 納米印刷沉積系統是 VSParticle 產品線中的設備，專為材料開發和小規模生產測試而設計。利用火花燒蝕材料的沖壓沉積技術，能夠實現從稀疏團聚體到厚達幾微米的連續層的不同層厚度印刷沉積。它的圖案化打印功能使得研究人員能夠在非半導體類的納米薄膜應用中實現精細的厚度控制。VSP-P1 在高效催化劑涂層膜的開發、電催化劑篩選和氣體傳感器研究中展現了其性能和靈活性。

VSP-G1 納米粒子發生器

VSP-G1 納米粒子發生器是一臺桌面式儀器，可生成尺寸范圍為 1 – 20 nm 的純金屬、金屬氧化物、碳、半導體、合金納米氣溶膠材料。納米顆粒的生產采用純物理火花燒蝕技術制備，在氣相中進行，無需真空，無需使用表面活性劑或前驅體。用于納米粒子生產的源材料僅需材料制成所需的兩根靶材（電極），使用時只需安裝電極并設置參數，按下按鈕即可開始生成納米顆粒。

VSP-S1 納米粒徑篩選沉積系統

VSP-S1 是 VSP-G1 的理想伴侶，它是一款用戶友好的納米粒子尺寸選擇器，能夠輕松篩選出 1-10nm 范圍內的單一尺寸顆粒。VSP-S1 納米粒徑篩選沉積系統提供 0.1nm 分辨率的精準控制；適用于原位 TEM 研究和尺寸依賴的效應研究；具備實時跟蹤功能，確保樣品一致性和可靠性。